El proceso de postulación, que comenzó el 16 de febrero, estará disponible para las y los postulantes hasta este jueves 23 de marzo a las 14:00 horas y se realiza completando el Formulario Único de Acreditación Socioeconómica (FUAS).
La Subsecretaría de Educación Superior informa que este jueves 23 de marzo, a las 14:00 horas, termina el último plazo para que estudiantes postulen o terminen el registro de postulación a la gratuidad y a los beneficios estudiantiles para el año académico 2023, cuya inscripción se realiza a través del sitio web www.fuas.cl.
Las y los estudiantes pueden postular a la gratuidad, a las becas y a los créditos estatales, llenando el formulario FUAS. Los requisitos para postular son: provenir de los hogares pertenecientes al 60% de menores ingresos del país; matricularse en alguna de las instituciones adscritas a la gratuidad, en alguna carrera de pregrado con modalidad presencial; no contar con un título profesional previo o un grado de licenciatura terminal, obtenido en alguna institución nacional o extranjera; y tener nacionalidad chilena, o bien ser extranjera/o con permanencia definitiva o residencia. En caso de tener residencia, debe además contar con enseñanza media completa cursada en Chile.
En el caso de las o los estudiantes con licenciatura, podrán acceder a la gratuidad si optan por cursar un programa conducente a un título de profesor/a o educador/a, solo por la duración del plan de estudios de ese programa, que no puede exceder los cuatro semestres.
Por otra parte, si quien postula cuenta con un título técnico de nivel superior, podrá acceder a la gratuidad solo si se matricula en una carrera afín conducente a título profesional con o sin licenciatura. Si ya es estudiante de Educación Superior, no debe haber excedido la duración nominal de la carrera.
La postulación se puede realizar de forma online, en el sitio web portal.beneficiosestudiantiles.cl, donde se deberán incluir los datos personales y académicos, además de información sobre el grupo familiar y sus ingresos anuales.